基于CMOS檢測(cè)器全譜測(cè)試技術(shù)，測(cè)試金屬中元素的譜線(xiàn)，方便實(shí)現(xiàn)多基體、多元素的測(cè)試。
光電直讀光譜儀選取
光電直讀光譜儀一般是由制造廠(chǎng)家根據(jù)用戶(hù)的分析任務(wù)在出廠(chǎng)前調(diào)整好的。儀器上的通道數(shù)量、分析元素的含量范圍、分析線(xiàn)和內(nèi)標(biāo)線(xiàn)的選擇等，調(diào)整好以后，都是固定的。選擇儀器應(yīng)注意以下事項(xiàng)：
(1)光源發(fā)生器的選擇
為進(jìn)行多種樣品和元素的分析，需要各種發(fā)生器。同時(shí)測(cè)定多種元素時(shí)，根據(jù)測(cè)定范圍選一種激發(fā)方法。
火花光源比較適合于同時(shí)測(cè)定多種元素，如金屬中的合金成分和雜質(zhì)元素的定量分析。電弧光源適用于測(cè)定樣品中的痕量成分。低壓電容放電光源使電路參數(shù)變化達(dá)到從電弧到火花階段性變化，可用于多目的的分析。
(2)分光計(jì)的選擇
一般是根據(jù)分析元素及其測(cè)定范圍、鄰近譜線(xiàn)對(duì)分析線(xiàn)影響的程度等因素，考慮色散率、測(cè)定波長(zhǎng)范圍和亮度來(lái)選定。
(3)分析線(xiàn)的選擇
分析元素和內(nèi)標(biāo)元素的譜線(xiàn)應(yīng)選擇受其他元素譜線(xiàn)及帶光譜等影響小、信噪比大的譜線(xiàn)。

金屬元素光譜分析儀OES8000S是的第二代CCD全譜光譜儀制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；引進(jìn)歐洲技術(shù)、同國(guó)際光譜儀技術(shù)同步，國(guó)內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商；基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用升級(jí)多基體方便，無(wú)須變動(dòng)增加硬件 ；優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時(shí)間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；體積小、重量輕， 移動(dòng)安裝方便 ；高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。






金屬元素光譜分析儀主要特點(diǎn)：
1、可測(cè)定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦  基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶(hù)需要選擇通道元素；
2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分。針對(duì)不同的分析材料，通過(guò)設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線(xiàn)，使儀器用短的時(shí)間達(dá)到優(yōu)的分析效果；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限，測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性；
4、的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
5、自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線(xiàn)掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線(xiàn)，與原存儲(chǔ)線(xiàn)進(jìn)行對(duì)比，確定漂移位置，找出分析線(xiàn)當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測(cè)定；
6、開(kāi)放式的電極架設(shè)計(jì)，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7、工作曲線(xiàn)采用國(guó)際標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線(xiàn)，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線(xiàn)由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動(dòng)扣除干擾；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對(duì)光室的污染，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性；
10、銅火花臺(tái)底座，提高散熱性及堅(jiān)固性能；
11、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶(hù)節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長(zhǎng)，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易；
13、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況；
14、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無(wú)關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
15、核心器件全部原裝進(jìn)口，保證了儀器的品質(zhì)。



技術(shù)性能及參數(shù)


1.分光室設(shè)計(jì)
帕邢-龍格結(jié)構(gòu),羅蘭圓直徑350mm
波長(zhǎng)范圍140 – 800nm
像素分辨率10pm
恒溫34℃±0.5℃
材質(zhì)鑄造，保證光室形變小
2.凹面光柵
刻線(xiàn)密度3600l/mm
一級(jí)光譜線(xiàn)色散率：1.2 nm/mm
3.檢測(cè)器
高性能線(xiàn)陣CCD
4.分析時(shí)間
依樣品種類(lèi)而不同，一般少于30秒
5.激發(fā)光源
全數(shù)字等離子火花光源技術(shù)
高能預(yù)燃技術(shù) (HEPS)
頻率100-1000Hz
電流1-80A
6.激發(fā)臺(tái)
4mm樣品臺(tái)分析間隙
噴射電極技術(shù)
無(wú)待機(jī)流量，低氬氣消耗
7.尺寸和重量
高450mm 長(zhǎng)750 mm 寬800 mm
85 kg
8.功率
大功率1500W
待機(jī)功率70W



工作條件


工作溫度：15-30℃
相對(duì)濕度：≤70%
電 源：220±5V，單相50Hz，接地電阻＜1Ω
實(shí)驗(yàn)室無(wú)震動(dòng)、粉塵、強(qiáng)電磁干擾、強(qiáng)氣流、腐蝕性氣體
OES8000廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車(chē)制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。OES8000全譜直讀光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。

樣品預(yù)處理 
使用光譜磨樣機(jī)打磨樣品的測(cè)試面，使樣品表面平整、光潔、劃痕一致。

OES8000廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車(chē)制造、、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗(yàn)，中心實(shí)驗(yàn)室成品檢驗(yàn)。OES8000金屬成分分析光譜儀體積小、穩(wěn)定性好、檢測(cè)限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
公司被授予 “火炬計(jì)劃”，“江蘇省”，“江蘇省軟件企業(yè)”，“江蘇省科技創(chuàng)新示范企業(yè)”，“江蘇省規(guī)劃布局內(nèi)軟件企業(yè)”，“江蘇省光譜分析儀器工程技術(shù)研究中心”等榮譽(yù)稱(chēng)號(hào)。X熒光光譜儀系列產(chǎn)品被認(rèn)定為“新產(chǎn)品”和“江蘇省高新技術(shù)產(chǎn)品”。產(chǎn)品品種，為環(huán)境保護(hù)與安全、工業(yè)測(cè)試與分析及其它領(lǐng)域提供解決方案。天瑞儀器將不斷探究世界分析領(lǐng)域的前端。為客戶(hù)提供更加的產(chǎn)品和更加滿(mǎn)意的服務(wù)，同時(shí)為電子、電器、珠寶、玩具、食品、建材、冶金、地礦、塑料、石油、化工、醫(yī)藥等眾多行業(yè)提供更為完善的行業(yè)整體解決方案，從而推動(dòng)中國(guó)經(jīng)濟(jì)快速化。
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